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九州産業大学工学部研究報告（Bulletin of the Faculty of Engineering Kyushu Sangyo University） >
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http://hdl.handle.net/11178/3767
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| タイトル: | 塩化クロム ( ? ) 六水塩のN,N-ジメチルホルムアミドおよびジメチルスルホキシド浴からのクロムの電解機構 |
| その他のタイトル: | Mechanism of Chromium Electrodeposition from N,N_Dimethylformamide and Dimethylsulfoxide Baths of Chromium ( ? ) Chloride Hexanydrate |
| 著者: | 津留, 寿昭
小林, 繁夫
楠原, 公規
Tsuru, Toshiaki
Kobayashi, Shigeo
Kusuhara, Koki
ツル, トシアキ
コバヤシ, シゲオ
クスハラ, コウキ
九州産業大学工学部工業化学科/九州産業大学工学部工業化学科/株式会社楠原製作所 |
| 発行日: | | | 
